Das gilt für die Kristallzüchtung genauso wie für die anschließende Veredelung mittels Epitaxie oder Ionen-Implantation. Diese Prozesse laufen bei sehr hohen Temperaturen und in extrem korrosivem Milieu ab. Gleichzeitig sind höchste Reinheit und absolute Präzision gefordert. Wir liefern graphitbasierte Lösungen entlang der gesamten Halbleiterproduktionsroute und sind mit unseren Siliziumcarbid-Beschichtungen einer der führenden Anbieter für die Halbleiterindustrie.
Wir investieren kontinuierlich in unsere Produkte und Produktionsprozesse, um Teile herzustellen, die für die Herstellung moderner Halbleiterchips entscheidend sind. Da unsere Teile aus den hochwertigsten Materialien hergestellt werden, die auch die engsten Maßangaben erfüllen, sind wir der bevorzugte Partner unserer Kunden.
Yad Singh, Technical Marketing Manager Nordamerika
